1200液相设备价格-包头1200液相设备-科鲁斯特测控

控温范围：

  g1316a 室温下 10℃~80℃，宏命令可控制 90℃

  g1316b 室温下 10℃~100℃

控温速率：室温加热 40℃，5min；40℃降温 20℃，10min

控温精度：±0.15℃

控温准确度：±0.5℃

柱容量：30cm×3

内体积：左控温模块 3μl，右控温模块 6μl；

阀切换功能：

  g1316a 标准型/微型 2ps/6pt 阀或标准型 2ps/10pt 阀

  g1316b 标准型/微型 2ps/6pt 阀或微型 2ps/10pt

功能扩展（用于快速液相色谱，1200液相设备怎么样，g1316b）：

  附加低扩散热交换器，1200液相设备好不好，并具有柱后降温功能，---快速检测时基线平稳。

glp 性能：柱识别器记录色谱柱的使用次数及使用方法

仪器控制及数据处理系统 (agilent chemstation)

安捷伦的化学工作站是真正---的四级仪器控制软件;

参数输入：仪器控制参数，数据采集及计算处理参数的设定；

报告：内置多种报告格式，包头1200液相设备，可自动生成系统适应性报告、峰纯度报告、光谱检索报告等；

用户也可编辑个性化的报告模板；

早期维护预警（emf）：提供消耗元件累计使用情况，以便及时进行系统预防性维护；

安装验证（iq）：仪器软、硬件的自动；

电子日志：实时记录仪器使用操作情况，随时查阅仪器状态。

工作条件：

工作电压：220+5% v

环境温度： 4~55°c

环境湿度： <95%相对湿度（不冷凝）

实现晶体的外延生长。这种技术可以生长si、gaas、gaalas、gap等半导体材料以及石榴石等磁性材料的单晶层，用以做成各种光电子器件、微波器件、磁泡器件和半导体激光器等 [1]  。液相外延由尼尔松于1963年发明，成为化合物半导体单晶薄层的主要生长方法，被广泛的用于电子器件的生产上。薄层材料和衬底材料相同的称为同质外延，反之称为异质外延。液相外延可分为倾斜法、垂直法和滑舟法三种。





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