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lpe的硅外延层，以其---的电学、光学及其生长特性，而在cvd无法胜任的领域应用前景---.目前，取得较为成功的方面有:(1)垂直沟道的场控制器件中的埋栅制造及沟道的外延再填;(2)太阳能电池;(3)超晶格器件;(4)三维集成技术 [1] .场控制器件：cvd在硅器件的埋结制造中，因自掺杂而出现埋层尺寸增加，1260液相供应商，密排栅极叉指制造也受到---影响，而lpe因其可以消除自掺杂，而在这方面得到应用，尤其对硼扩散的埋栅区域的埋结制造，其优点更为明显 [1] .
由上式可以看出分配系数和温度呈反比，升高温度，分配系数变小，组分在固定相的浓度减小，可缩短出峰时间。分配比κ又称容量因子，它是在一定温度和压力下，组分在两相间分配达平衡时，分配在固定相和流动相中的比κ=ms/mm，κ越大说明组分在固定相中的量越多，相当于柱的容量越大，1260液相厂家，因此又称分配容量比或容量因子。它是衡量色谱柱对被分离组分保留能力的重要参数。κ也决定于组分及固定相热力学性质，他不仅随柱温、柱压变化而变化，而且还与流动相及固定相体积有关。
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