1260液相设备-苏州科鲁斯特-1260液相设备供应

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    2023-11-21

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lpe的硅外延层,1260液相设备,以其---的电学、光学及其生长特性,而在cvd无法胜任的领域应用前景---.目前,取得较为成功的方面有:(1)垂直沟道的场控制器件中的埋栅制造及沟道的外延再填;(2)太阳能电池;(3)超晶格器件;(4)三维集成技术 [1]  .场控制器件:cvd在硅器件的埋结制造中,因自掺杂而出现埋层尺寸增加,密排栅极叉指制造也受到---影响,而lpe因其可以消除自掺杂,而在这方面得到应用,尤其对硼扩散的埋栅区域的埋结制造,其优点更为明显 [1]  .





技术参数:自动进样器:样品瓶容量:可达768瓶,另加10个2ml瓶,另加10个2ml瓶进橛量:0.1-100ul(标准)---1500ul的多次吸液功能所有自动进样器的度:一般<0.5(5-100ul进样量)恒温自动进样器:温度控制范围:从4℃-40℃可设定1℃agilent 1200系列柱温箱温度设定范围:室温下10℃至80℃温度稳定性:±0.15℃柱容量:30cm三根柱agilent 1200系列可变波长检测器短期噪声:±0.75×10-5,254nm波长范围:190-600nm





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