苏州科鲁斯特-1200液相供应-齐齐哈尔1200液相

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    2023-10-21

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实现晶体的外延生长。这种技术可以生长si、gaas、gaalas、gap等半导体材料以及石榴石等磁性材料的单晶层,1200液相,用以做成各种光电子器件、微波器件、磁泡器件和半导体激光器等 [1]  。液相外延由尼尔松于1963年发明,1200液相供应,成为化合物半导体单晶薄层的主要生长方法,被广泛的用于电子器件的生产上。薄层材料和衬底材料相同的称为同质外延,反之称为异质外延。液相外延可分为倾斜法、垂直法和滑舟法三种。





1 标准自动进样器(g1329a)

品容量:1个100位样品盘,齐齐哈尔1200液相,每个样品盘可放置100个2-ml样品瓶

2个 40位样品盘,每个样品盘可放置 40个2-ml样品瓶

2 个 15 位样品盘,每个样品盘可放置 15 个 6-ml 样品瓶

样品残留:<0.05%(启动洗针程序)

重复进样次数:1~99 次/样品

大操作压力:400bar

3.2.2 能自动进样器(g1367b/c)

样品容量:2 块多孔板(96 孔板和/或 384 孔板)+ 10 个 2-ml 样品瓶

1 个 100 位样品盘,每个样品盘可放置 100 个 2-ml 样品瓶

2 个 40 位样品盘,每个样品盘可放置 40 个 2-ml 样品瓶

样品残留:<0.01%

大操作压力:400bar(g1367b);600bar(g1367c)







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