




1.1 单元泵(g1310a)
流速范围:0.001~10.0ml/min, 0.001ml/min 步进
压力范围:0~40 mpa(0~400bar,二手1200液相哪里好,0~5880psi),<5ml/min;
0~20 mpa(0~200bar,0~2950psi),二手1200液相供应商,0~10ml/min
功能扩展:可升级成为四元泵
1.2 二元泵(g1312a/b)
---压泵头集成于同一组件中,大限度减小系统---体积,并---佳梯度混合准确
度及精密度。
流速范围:0.001~5.0ml/min, 0.001ml/min 步进
操作压力:
g1312a 0~40 mpa (0~400 bar, 0~5880psi)
g1312b 0~60 mpa (0~600 bar, 0~8700psi)
梯度组成精密度:<0.15% rsd
梯度组成准确度:±0.5%
梯度---体积:
g1312a 180~480μl,600~900μl 带混合器 (与反压相关)
g1312b 120μl
功能扩展:在线真空脱气机,二手1200液相厂家,溶剂选择阀。

单光路二极管阵列检测器配备hp1100液相色谱仪的光路如下:
消除色差透镜系统---后,光源发出的复合光照射到流通池上。透射光通过全息凹面衍射光栅分散后,投射到由1024个二极管组成的二极管阵列中进行检测。光路系统中的光闸是的运动部件。它有三个动作位置:
(1)光闸覆盖所有入射光束进行暗电流补偿;
(2)将氧化钦滤光片插入光路,准确校正衍射波长;
(3)打开光闸,北京二手1200液相,使入射光通过样品流通池照射在光栅上。

实现晶体的外延生长。这种技术可以生长si、gaas、gaalas、gap等半导体材料以及石榴石等磁性材料的单晶层,用以做成各种光电子器件、微波器件、磁泡器件和半导体激光器等 [1] 。液相外延由尼尔松于1963年发明,成为化合物半导体单晶薄层的主要生长方法,被广泛的用于电子器件的生产上。薄层材料和衬底材料相同的称为同质外延,反之称为异质外延。液相外延可分为倾斜法、垂直法和滑舟法三种。

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