lpe的硅外延层，以其---的电学、光学及其生长特性，而在cvd无法胜任的领域应用前景---.目前，取得较为成功的方面有:(1)垂直沟道的场控制器件中的埋栅制造及沟道的外延再填;(2)太阳能电池;(3)超晶格器件;(4)三维集成技术 [1] .场控制器件：cvd在硅器件的埋结制造中，1260液相设备，因自掺杂而出现埋层尺寸增加，密排栅极叉指制造也受到---影响，1260液相设备厂商，而lpe因其可以消除自掺杂，而在这方面得到应用，尤其对硼扩散的埋栅区域的埋结制造，其优点更为明显 [1] .
1、进样量范围：
0.1 – 900μl，淮南1260液相设备，增量为 0.1μl （增量为 1μl）
使用多次抽取升级工具包时（需要改动硬件）达 1800μl
2、精度：
5-2000 μl 内，峰面积精度一般 ＜ 0.5 % rsd
2000 – 5000 μl内，峰面积精度一般 ＜ 1 % rsd
1 – 5 μl内，峰面积精度一般 ＜ 3 % rsd
可变体积
3、样品黏度范围：0.2 ~ 5 cp
4、样品容量：
1 个样品盘上 100 ×2 ml 样品瓶，
1/2 盘上 40 ×2 ml 样品瓶
1/2 盘上 15 ×6 ml （安捷伦样品瓶）
1.常见色谱故障——压力波动可能原因：溶剂进口过滤芯堵塞；溶剂未脱气；泵的密封垫老化；出口单向阀失效；主动阀失效。常见原因：泵内有气泡2.常见色谱故障——压力过低可能原因：溶剂进口过滤芯堵塞；连接管路泄漏或其它备件（泵头密封垫）；溶剂或流速改变；主动阀失灵；四元比例阀失灵；单向出口阀失灵；色谱柱失效（固定相流失）。
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